主講人：鞠煥鑫研究員

時間：9月13日下午14:00

地點：麗湖校區守正樓212會議室

報告人簡介：

鞠煥鑫，PHI (China) Limited 高德英特(北京)科技有限公司首席科学家，国家同步辐射实验室特任研究员。鞠焕鑫分别于2009年和2014年于中国科学技术大学获得学士和博士学位。长期从事表面分析技术方法学研究以及能源材料/器件界面电子性质研究，在Science, Nature，Nature Photonics, Nature Chemistry, Nature Energy, J. Am. Chem. Soc., Angew. Chem. Int. Ed, Adv. Mater, Adv Funct Mater等期刊发表学术论文百余篇；曾主持/参与多个国家级科研項目。

講座摘要：

表面分析技術已經廣泛應用于新材料和器件的基礎科學研究以及高科技産業中，對深入理解其中的基本物理化學性質、表界面特性和電子結構等關鍵科學問題提供了強有力的工具。面對新材料/器件中的基礎研究和技術創新，先進表征分析技術的發展和應用具有重要的意義。

本報告將針對科學研究中對表面分析技術的需求，從空間分辨、深度分辨和原位表征多個維度出發，介紹多種表面分析技術（XPS、UPS、LEIPS、AES和TOF-SIMS等）最新發展以及在材料組分、化學態、能級電子結構（價帶和導帶）和分子結構信息等研究中的應用，以及，樣品制備和數據處理等內容，歡迎大家交流和討論。

1.      X射线光电子能谱（XPS）是广泛使用的表面分析技术，可以提供材料表面的组分和化学态信息，结合微区XPS可以获得元素和化学态的空间分布影像（mapping），结合离子溅射可以进行深度剖（depth profile），为表界面化学作用提供重要实验数据；

2.      飛行時間二次離子質譜（TOF-SIMS）具有超高檢出限（ppm-ppb）、高質量分辨和高空間分辨能力，可以提供表面離子信息和空間分布信息，以及獲取摻雜組分的三維（3D）分布，爲表界面擴散和缺陷鈍化等研究提供關鍵數據；

3.      俄歇電子能譜（AES）利用場發射電子束激發元素俄歇電子，可以提供樣品表面（<5nm）元素在納米級別空間尺度的分布信息，爲納米/亞微米尺度樣品的表面研究提供重要數據。

歡迎有興趣的師生參加！